「엑스레이 튜브용 에미터 및 이의 제작방법」 특허 등록

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씨에이티빔텍은 엑스레이 튜브용 에미터 및 이의 제조 방법으로 촉매가 누출되는 것을 방지하여
엑스레이 튜브의 전극 구조 위에 전자방출 소자인 탄소나노튜브를 균일하고 안정적으로 성장시킬 수 있는 방법에 대해 국내 특허등록을 마쳤습니다.

이번 특허는 엑스레이 튜브용 에미터 및 이의 제작방법에 관한 것이며
이 특허기술은 기존의 엑스레이 튜브용 에미터의 제작과정, 특히 열처리 과정에서 촉매 금속층에 포함된 촉매가
캐소드 전극이나 기판으로 확산 내지 누출되는 문제가 발생하여 탄소나노튜브의 성장에 균일성을 저하하는 문제를 방지할 수 있습니다.

본 특허의 핵심인 촉매 차단층을 이용하여 당사는 탄소나노튜브를 보다 균일하고 안정적으로 성장할 수 있게 되어
전자 방출 효율이 향상된 에미터를 확보, 이를 적용한 고출력 엑스레이 튜브를 개발, 생산할 수 있을 것으로 기대합니다.
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