「전자방출 소스 및 이의 제조방법」 특허 등록

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씨에이티빔텍은 전자를 방출시키기 위한 탄소나노튜브의 성장효율을 높이고
수지 코팅과 열처리를 통해 전자방출 특성과 안정성이 향상된 에미터 제조공정에 대한 국내 특허등록을 마쳤습니다.

이번 특허는 전자방출 소스 및 이의 제조방법에 관한 것이며
본 발명의 목적은 전자 방출을 위한 탄소나노튜브의 성장효율을 향상시킴과 동시에 성장된 탄소나노튜브와 기판과의 접착력을 증대하여
전자방출의 효율과 안정성을 향상시킬 수 있는 제조공정을 확보하는 데 있습니다.

본 발명을 통해 당사는 에미터로부터 탄소나노튜브를 성장, 성장된 에미터를 원심력을 이용해 수지를 포함하는 코팅재료로 코팅하는 단계와
이를 열처리하는 단계를 포함하여 전자가 방출되는 방향으로 내구성이 강화된 뾰족한 에미터 팁을 적어도 하나 확보할 수 있습니다.

상기의 과정을 통해 에미터와 탄소나노튜브 사이의 접착력을 증대시킬 수 있으며 주변의 불순물을 제거, 전자방출 효율의 향상을 기대할 수 있습니다.
또한 전자의 방출방향으로 뾰족한 첨단형상의 에미터 팁이 구비되어 방출된 전자의 직진성을 향상할 수 있을 것으로 기대합니다.
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